colorPol® S - パターンポラライザ

特別な使用や用途に適しています。

例:

  • 様々な波長範囲の偏光子と組合せが可能
  • 様々な偏光方向へのパターニングが可能
  • 波長ごとの偏光・無偏光の部分の指定・組合せが可能



形とサイズ:    円形、正方形、三角形など様々なサイズに加工可能
オプション:    反射防止膜(ARコーティング)をつけることが可能

その他、ご要望に応じて対応可能

 

ピース数、希望のパターン、公差に応じて、2つの製造工程があります。

→ Lithographic technology
→ Mosaic technology

 

 

各テクノロジーの技術データ

 モザイクリソグラフィ
波長範囲340~2,650 nm340~2,650 nm  
消光比標準製品同様~10,000 : 1
それ以外は標準品と同じ
各セグメントの解像度

セグメントの形や数による

(約2~10 mm)

~30 µm
パターン数制限あり制限あり
偏光軸公差< 0.5~2 °< 0.5 °

リソグラフィ

colorPol® ポラライザでは、ガラス表面に埋め込まれた縦長の銀ナノ粒子により偏光が発生します。この特別なデザインにより、的確な表面エッチングをすることでナノ粒子を取り除くことが可能になります。

リソグラフィープロセスを使って、部分的にエッチングをすることができます。その結果、偏光部分と無偏光部分を作り出すことができます。ポラライザを複数層貼りつけることで、様々な波長範囲や偏光方向の偏光素子を作ることができます。

各部位の形は任意に選ぶことができますが、解像度は30 µmまでです。

モザイクテクノロジー

モザイクテクノロジーでは、薄いガラス基板からできたcolorPol® の特性が生かされています。

各パターンには様々な偏光方向と波長帯のポラライザを複数枚使うことができますが、サイズ、形、パターン数には制限があります。各パターンは、モザイクのように配置され、二つのキャリア基板の間にラミネートで固定されています。