리소그래피

colorPol® 편광판에서 편광은 유리에 얕게 심겨져 있는 길쭉한 은/나노입자에 의해 생겨납니다. 이러한 특수한 디자인은 목표한 표면 에칭을 통해 나노입자를 제거할 수 있는 가능성을 제공합니다.
리소그래피 프로세스로 인해 선택적인 에칭이 가능합니다. 이로 인한 결과는 투과적이고 선형적 편광 범위를 갖는 편광판입니다. 이러한 편광판들을 여러 겹으로 붙여서 다양한 파장범위와 편광 방향을 갖는 편광 구조물을 생산할 수 있습니다.

각 범위의 모양은 임의로 선택할 수 있고 이 때 해상도는 30 µm까지 가능합니다.

 

 

 

 

구조적 – 리소그래피
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